光固化3D打印聚酰亞胺
技術(shù)領(lǐng)域：新材料
項目簡介：該成果以用于3D打印的光固化聚酰亞胺光敏材料為主體，從光敏聚酰亞胺的分結(jié)構(gòu)設(shè)計角度出發(fā)，從主鏈引入具有柔性、高溶解性基團，提高聚酰亞胺的溶解性和柔性，在側(cè)鏈引入光敏基團同時提高低聚物的溶解性等設(shè)計思路，解決了聚酰亞胺的難溶難熔問題，能夠大批量合成和制備具有可3D打印的光固化聚酰亞胺光敏材料。通過結(jié)合3D打印制備技術(shù)系統(tǒng)地研究了聚酰亞胺樹脂光固化成型工藝以及功能性器件的性能。主要應(yīng)用于電子制造、組織工程和航空航天等領(lǐng)域。
3D打印高強韌彈性體
技術(shù)領(lǐng)域：新材料
項目簡介：該成果運用DLP 3D打印技術(shù)一步制備不同的高精度復(fù)雜結(jié)構(gòu)體，打印體層與層之間很好地連接，劇烈的形變和扭曲對結(jié)構(gòu)沒有任何損傷，而且打印體具有很高的形變恢復(fù)性能和機械性能穩(wěn)定性。彈性體機械性能強，強度大于10 MPa，斷裂伸長率大于200%，回彈率大于90%。打印體精度小于1 mm。主要應(yīng)用于機器人、柔性電子器件和可穿戴傳感器等領(lǐng)域。
聚酰亞胺光刻膠
技術(shù)領(lǐng)域：新材料
項目簡介：聚酰亞胺光刻膠光刻后光刻線尺寸與掩膜線尺寸相切合，且邊界清晰，光刻過程沒有發(fā)生熱聚合，工藝條件與光敏聚酰亞胺相對匹配。光刻后不留底膜，薄膜厚度小于 100 um，光刻后上下口寬度差不超過線寬的 1/5。主要應(yīng)用于微機電系統(tǒng)、太陽能光伏及微流道和生物芯片工業(yè)等領(lǐng)域。
石墨烯基減摩抗磨納米潤滑添加劑
技術(shù)領(lǐng)域：新材料
項目簡介：該成果是一種石墨烯負載二氧化鈰（CeO2）和二氧化鋯（ZrO2）復(fù)合納米潤滑添加劑材料，其在基礎(chǔ)油中具有較好的分散穩(wěn)定性，能大幅提升基礎(chǔ)油的摩擦學(xué)性能，非常少量的添加劑（～0.06 wt%）即可將摩擦系數(shù)降為基礎(chǔ)油的1/2，磨損率降為基礎(chǔ)油的1.5%。主要應(yīng)用于納米潤滑添加劑等領(lǐng)域。
新型氟化石墨烯潤滑添加劑
技術(shù)領(lǐng)域：新材料
項目簡介：該成果涉及簡單、有效的溶劑回流插層-超聲剝離法和化學(xué)試劑輔助球磨剝離法，分別制備了高質(zhì)量的氟化石墨烯納米片，摩擦學(xué)性能測試分析表明，其在聚α-烯烴（PAO-40、PAO-8等）基礎(chǔ)油中有良好的分散穩(wěn)定性，高載荷下（350/150N），隨著F含量的增加，能大幅提升耐磨壽命、減少磨損體積/磨損率。主要應(yīng)用于新型納米潤滑添加劑等領(lǐng)域。
聯(lián)系人：王經(jīng)理、葉經(jīng)理
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